星星之火
可以燎原

ZPH700
i-Line 步进投影式光刻机

面向传感器、​功率器件、​MEMS、​分立器件及其他各类化合物半导体等芯片前道工艺。​
由中科院背景技术团队与尼康原厂资深工程师合力打造。​面向传感器、功率器件、MEMS及分立器件等芯片前道工艺，适配多类化合物半导体制造场景。由中科院背景技术团队与尼康原厂资深工程师联合打造。​

• 自研首台套
• 整机模块化
• AI 精工艺
• 可选配升级

光电成套组件

为光束测量、光路标定、光闭环稳定控制，​提供配置化、自动化、定制化解决方案，​缩短装调周期、提升设备批次一致性。​

• 高精度光束测量单元
• 光闭环稳定控制系统
• 自动化光路标定模组

光刻机维保

提供 DUV、i-Line 光刻机的翻新、维保、​疑难问题排查，​保障产能、稳定良率、精进工艺。​

• 进口设备原厂资深专家
• 头部 FAB 厂长期合作
• 国家级光刻机攻关研发

接近接触式光刻机

• 4-8 英寸单面光刻机
• 12-24 英寸大面积光刻机
• 单光源双面光刻机
• 双光源双面光刻机