01
4–8 英寸单面光刻机
面向中小尺寸基片的高精度图形转移，兼顾图形质量、对准效率与多工艺适配，支持定制。
- 积木错位蝇眼透镜消衍射技术，提升曝光图形质量与分辨力
- i 线（365 nm）紫外曝光光源与高均匀平行照明
- 高精度快速自动调平、调焦，支持大、小基片及碎片
- 双目双视场显微镜与 CCD 双通道对准
- 数字化对准 / 曝光间隙控制，支持四种曝光模式
- 抽拉式上下片、纳米压印接口与碎片处理能力
接近接触式光刻机
覆盖多尺寸基片、单双面曝光及定制化应用。
02
12–24 英寸大面积光刻机
面向大尺寸基片与大面积图形转移，解决大曝光场下均匀性与对准一致性难以兼顾的问题，支持定制。
- 消衍射照明与 i 线高均匀平行曝光
- 自动调平调焦与双通道精密对准
- 真空接触、硬接触、压力接触与接近式曝光
- 抽拉式上下片，降低大片操作负担
- 适合平板、大尺寸样品及大图形场工艺
03
单光源双面光刻机
为需要正反面图形套准的器件工艺设计，在单光源架构下完成双面对准与曝光，保持占地、光源配置与工艺路径的简洁。
- 单光源双面对准与曝光
- 降低双面工艺链路复杂度
- 适配希望精简设备配置的双面工艺
04
双光源双面光刻机
采用双光源独立照明，在双面套刻要求之上进一步提升曝光效率与工艺灵活性。
- 双光源独立照明
- 提升双面曝光效率
- 适合对产能和双面节拍更敏感的产线