01
首台套发布：ZPH700-25T200W6
- 曝光场25 × 25 mm
- 线宽700 nm
- 套刻精度优于 ±200 nm
- 兼容晶圆2 / 4 / 6 寸；软件切换，无需更换吸盘
ZPH700i-Line 步进投影式光刻机ZPH700i-Line 步进投影式光刻机
面向传感器、功率器件、MEMS、分立器件及其他各类化合物半导体等芯片前道工艺。由中科院背景技术团队与尼康原厂资深工程师合力打造。面向传感器、功率器件、MEMS及分立器件等芯片前道工艺，适配多类化合物半导体制造场景。由中科院背景技术团队与尼康原厂资深工程师联合打造。
02
整机模块化，支持按需选配、升级与定制
- 出厂选配光刻效果下片前无损检测模块
- 在线升级物镜、照明系统；半自动 / 全自动上下片配置模块
- 工艺定制其他光刻需求
03
AI 智控光刻，易操控、稳运行、精工艺
- 装调省心一键初始化，定期自动标定
- 数据安心支持本地 AI 模型接入；全量数据本地加密存储
- 工艺知心知识自主迭代；参数自动推荐，配方智能补全