Products / 01—03

ZPHER SYSTEMS

为每一次
制程突破而生。

从曝光、计算到量测，我们构建可扩展、可协同的精密制造系统。

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One ecosystem

不只是一台设备，
而是一套系统能力。

先进芯片制造的每一步都环环相扣。ZPHER 将光学、运动控制、计算与量测能力整合为面向量产的产品组合，帮助客户持续拓宽工艺窗口。

Product portfolio

三条产品线，覆盖从图形转移到工艺反馈的关键节点。

ZPH700
i-Line 步进投影式光刻机

面向传感器、​功率器件、​MEMS、​分立器件及其他各类化合物半导体等芯片前道工艺。​
由中科院背景技术团队与尼康原厂资深工程师合力打造。​面向传感器、功率器件、MEMS及分立器件等芯片前道工艺，适配多类化合物半导体制造场景。由中科院背景技术团队与尼康原厂资深工程师联合打造。​

  • 自研首台套
  • 整机模块化
  • AI 精工艺
  • 可选配升级
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光电成套组件

为光束测量、光路标定、光闭环稳定控制，​提供配置化、自动化、定制化解决方案，​缩短装调周期、提升设备批次一致性。​

  • 高精度光束测量单元
  • 光闭环稳定控制系统
  • 自动化光路标定模组
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光刻机维保

提供 DUV、i-Line 光刻机的翻新、维保、​疑难问题排查，​保障产能、稳定良率、精进工艺。​

  • 进口设备原厂资深专家
  • 头部 FAB 厂长期合作
  • 国家级光刻机攻关研发
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接近接触式光刻机

  • 4-8 英寸单面光刻机
  • 12-24 英寸大面积光刻机
  • 单光源双面光刻机
  • 双光源双面光刻机
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SELF-DEVELOPED PLATFORM01
700 NM STEPPER

把稳定量产，
放进设计起点。

700 nm 步进投影式光刻机将曝光、对准与系统稳定性作为一体设计。自研平台可围绕产线节拍、基片规格与工艺窗口进行深度适配，帮助客户建立可控、可维护、可扩展的光刻能力。

预约技术交流
APPLICATION功率器件 / MEMS
PROCESS先进封装 / 特色工艺
ADAPTATION按产线需求深度适配

具体设备配置与技术方案将依据客户基片、节拍及工艺窗口需求确认。

Application scenarios

面向真实产线的
光刻与光束控制需求。

01

功率器件与 MEMS

为更重视稳定量产的成熟制程段提供适配能力。

02

计量与高端激光加工

以高精度光束检测和闭环补偿，抑制抖动与漂移。

03

多尺寸与双面工艺

URE-2000 系列覆盖中小尺寸、大面积及单双光源双面曝光场景。